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乙肝表面抗体阳性,EUV 需求旺盛 半导体设备厂获益良多-csgo雷火电竞

admin 雷火竞猜 2019-11-10 317 0

原标题:EUV 需求旺盛,半导体设备厂获益良多

  据中央社报导,台积电英特尔和三星为打造体积更小、功能更强的处理器,纷繁投入极紫外光(EUV)技能,相关设备花费不菲,导致 3 家厂商本钱开销直线攀升,ASML 等半导体设备厂则获益良多。

  极紫外光刻(英语:Extremeultravioletlithography,也称 EUV 或 EUVL)是一种运用极紫外(EUV)波长的下一代光刻技能,其波长为 13.5 纳米,估计将于 2020 年得到广泛应用。简直一切的光学材料对 13.5nm 波长的极紫外光都有很强的吸收,因而,EUV 光刻机的光学体系只要运用反光镜。

  与常用光源比较,选用 EUV 的体系能让芯片电路愈加微缩,但其相应的制作本钱也跟着水涨船高。首要因为 EUV 光刻设备价格昂扬。

  ASML 称,第 3 季光售出 7 套 EUV 体系就进帐 7.43 亿欧元,等于每套体系要价超越 1 亿欧元。这还不包括半导体制程控管与测验设备本钱。因而,晶圆代工龙头厂商本钱开销大增成为趋势。

  台积电 10 月举行成绩发布会时宣告本年本钱开销达 140 亿至 150 亿美元,高于原先设定方针近 40%,创下台积电单年本钱开销最高纪录。英特尔随后宣告加码 3%,本年本钱开销方针达 160 亿美元,创公司建立以来最高纪录,比两年前高出 36%。

  三星也在上星期宣告,本年半导体工作本钱开销约 200 亿美元。三星发布的金额略少于上一年,但业界分析师表明,三星本年大幅削减出资存储器出产,是为了将更多的资源投入下一代晶圆代工厂

  另一个晶圆制作大厂,也便是英特尔,其 10nm 的晶体管密度根本现已到达台积电 / 三星的 7nm EUV 水平,而其运用的制程仅仅只是和台积电相似的多重显影 DUV 技能,而其未来的 7nm 才会真实引进 EUV 技能,以完成更高的晶体管密度,但依据商场猜测,英特尔的 7nm 技能能完成的晶体管密度或许和三星的 5nm 大同小异,而同样会落后于台积电的 5nm。

  晶圆代工厂本钱开销大增的一起,意味着半导体设备厂将获益良多。ASML 表明,第 3 季单季接 23 套 EUV 体系订单,创单季订单金额最高记载;半导体制程控管设备制作商科磊上星期发布,管帐年度第 1 季营收年增率达 29%,并表明 EUV 出资是成绩增加的首要因素。

  据悉,下一年 EUV 需求意料愈加旺盛,半导体设备厂远景向好。

(责任编辑:DF515)

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